这次的会议都是梦婉周亲自用电话一个个单独通知的，跳过助理直接通知到各個企业的一把手，让他们不要声张，按照时间地点自己过来就行了。

到了会场以后，众人也环顾了一下彼此，发现明显比上次会议人要少了很多，有些人也发现有些他们私下里交流过说入围的企业这次好像并没有来，加上这略微有些神秘的操作，也很奇怪，难免窃窃私语：

“之前不是通知过一轮了吗怎么又通知要过来”

“不知道啊，不是连资料都给了吗12纳米的，我还稍微有些失望，不过想想对于我们企业已经是一个大进步了，正准备开始搞，突然就又被叫过来了。”

“我也是，还搞得很神秘，让我谁都不要告诉，包括之前入围名单里的企业，都不要联系，自己来就行了，不知道在搞什么名堂。”

“而且你们发没发现，有几家企业好像没在这里哎，比如那家西科电子，我跟他们老板还有过照面，我记得他们在名单里的，怎么这次好像没有过来”

“确实是哦，不光是他，还有好几家好像都没来，是不是有事来不了啊”

“不知道，他们的人来了，听听再说吧。”

江凡此刻推开门，迈步走到主座前坐下，笑着扫视了一圈会议室里的众人，这才是这次联盟真正的核心，是这次能否在芯片上有所突破的关键。

他笑着看向众人道：“各位，大家好，又见面了，我想很多人会很奇怪，不是计划都定下来技术资料也发了准备开干了吗为什么突然又把大家召集到一起

那是因为，之前的计划只是幌子，之前发的12纳米芯片的制造资料也不是我们真正要做的。

我们这一次要做的东西，是超过12纳米的真正可以与国际同类公司正面竞争的芯片。”

他说完便让助理把投影仪打开，把电脑接上去。

江凡的这番话，让与会的人员都微微有些愕然，心里都暗自在嘀咕。

可以和国际厂商竞争难道是10纳米芯片虽然说本质上10纳米还是要比别人差了一点，但好歹进入10纳米范畴了，勉强能算同一个量级了，并且从14纳米跨越到10纳米从技术上也算是一个正常的迈进步伐。

或者也有人的想法比较大胆一点，会不会是7纳米，7纳米从来都是一个明确的砍，是划分普通意义上的高端和真正意义上高端的一个分水岭，能从10纳米跨越到7纳米，看似只前进了3纳米，但可应用的领域却一下子拓宽了很多。

包括物联网在内的无数应用场景的门槛就是7纳米芯片，这个看似小小跨越能带来的新增市场其实甚至要超过万亿。

到了这一步，真的就可以说达到国际领先水平了，和国外最先进的5纳米也就是一线之遥。

至于江凡说的会不会是5纳米芯片没有人这么想，因为不现实，从14纳米直接跨越到5纳米，连跨三代，玩儿呢。

所以有些人私下里也在偷偷议论，猜测这位年轻江总后面放出来的到底是10纳米还是7纳米。

助手一番操作后把电脑连上投影仪，江凡打开了文档资料，而打开的文件夹名直接把众人惊愕住了：

2纳米芯片技术文档。

两两纳米开玩笑吧，国外最先进的也不过5纳米，他们正在研究中的也不过才3纳米，你说你要做2纳米

越到高处，每提升1纳米都是难于登天，而随着可穿戴设备等物联网设备越做越小，其所能带来的经济效益也是难以估量的，每减少1纳米都是一个新的时代，都是对人类生活的一次重新定义。

然后这位江总说他要从14纳米直接跨越到2纳米

“那个，江总，你是不是2前面少加个1啊”有人还是忍不住问道，其他人嘴上没说，但心里也是这么想的。

江凡看了看电脑上文件夹名，又转头看了看投影仪上投出的文件夹名，看向提问那人，不明所以的回答道：

“没少啊，就是2纳米啊。”

江凡平淡到甚至觉得对方有些莫名其妙的话语，在在场与会人的心里却宛如惊涛骇浪。

他们真的要做2纳米芯片

这哪是和国际其他厂商竞争啊，你应该把刚才的话改一改，叫做我们做好后顺便把全球其他厂商碾压一下吧。

而其中最为惊讶的是张汝金，他今天同样是全权代表忠芯国际过来参会的。

之前的12纳米芯片计划，他虽然觉得踏踏实实地一步步走没有错，但联想到对方之前熊猫eda的横空出世，隐隐觉得这件事没那么简单，以他们之前表现出的胆略和气魄，怕不止是只想往前跨2纳米这么简单。

果然，很快他便收到了二次邀约，说不要声张一起再去开会。

他对这个会的结果是有期待的，尤其是当江凡说出要做出可以和国际竞争的芯片时，他隐隐已经猜测是不是7纳米乃至5纳米，如果真的做到这一步，那将非常地了不起。

但当江凡真正亮出要做的东西并加以确认时，纵使是他这个和芯片打了一辈子交道的半导体教父元老都惊诧了。

跳过3纳米，直奔2纳米，普通人连设想都不敢这么设想的，但人家却已经把技术资料都摆在眼前了。

赶超，竟来的如此之快吗这可是自己一辈子都没有完成的事啊。

张汝金心中有些激动，但他作为一个严谨的工程师，还是急切地想要看看里面实际的内容。

在众人期盼的目光中，江凡打开了资料，他来之前已经找青年人要了微电子技术、微机电系统、集成电路设计等芯片相关2030年左右知识体系的知识贴片，所以讲解起来也毫不费劲。

他做了整体概述性的讲解，并对其中一些核心技术做了深度的一些解读。

就比如光源这块，as阿斯麦的euv光刻机是世界上最牛的光刻机，其光源来自xyr，波长为135n。

但是这135n其实是从193n多次反射得到的，简单来说，就是用250功率的二氧化碳激光去轰击滴落下来的金属锡液滴，连续轰击两次后，就能加热并激发出euv等离子体，从而获得波长更短的光。

这一过程每秒得要轰击5万个液滴，而一个金属锡液滴就只有20微米大小，相当于从地球发出的手电筒光线要精准地射到一块在月球上的硬币一样难。

而euv光刻机里面的反光镜，是由德国蔡司制造的，只反射135n的光，一共有40层，每一层的外表都非常平整。

但由于euv的光很容易被空气吸收，每一次反射都会损失掉30的光强，一顿操作下来，最后就只剩下2的光强，所以euv光刻机可以说是耗电猛兽。

euv光刻机除了耗电还很耗水，因为轰击金属锡液滴会释放能量，所以每秒钟得有4000升的水来进行冷却，而厂房环境也很严格，每小时得要净化30万立方米的空气。